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TFT-LCD制造工艺过程

(时间:2006-12-8 共有 人次浏览) [信息来源:互联网]

   

 

    

     薄膜晶体液晶显示器(TFT-LCD)通常采用两个加工过程并行进行加工成成品,如图1所示。其基本工艺如下:

 

 

 

 


 

    ● 通过前玻璃基板/彩色滤光基板工艺过程形成精确排列的彩色滤光层。 
    ● 薄膜基板工艺形成薄膜晶体液晶(TFT)阵列及显示器像素控制所用其它电子元件。每个像素一般对应三个薄膜晶体液晶(TFT),每个像素控制一个共同构成一个像素的“色点”。薄膜形成工艺采用与半导体制造技术相类似的CVD、Etch及PVD等工艺技术。此类工艺步骤应反复数次,连续膜层方可形成一个功能元件(图2)。 

  
    ● 两块基板合二为一,中间注入液晶材料。 
    ● 最后组装背光及驱动电子元件,制造出TFT-LCD 模块。 
部分技术名词英文缩写
     AMLCD Active Matrix Liquid 
     Crystal Display
  a-Si  Amorphous Silicon 
  BM  Black Matrix 
  COG  Chip on Glass 
  COO  Cost of Ownership 
  CRT  cathode-ray Tube 
  CVD  Chemical Vapor Deposition 
  EL  Electroluminescence 
  EWS  Engineering Work Station 
  FED  Field Emission Display 
  FPD  Flat Panel Display 
  HDTV  High Definition Television 
  IPS  In-Plane Switching 
  ITO  Indium Tin Oxide 
  LCD  Liquid Crystal Display 
  LED  Light Emitting Diode
  MTBF  Mean Time Between Failure 
  MTTR  Mean Time To Repair 
  NTSC  National Television 
  System Commiee 
  OCB  Optically Compensated Bend 
  PAL  Phase Alternation by Line 
  color telision 
  PALC  Plasma Addressed Liquid 
  Crystal 
  PDP  Plasma Display Panel 
    p-Si Poly crystal Silicon 
  PECVD  Plasma Enhanced CVD 
  PVD  Physical Vapor Deposition 
  RF  Radio Frequency 
  RGB  Red, Green, Blue 
  RIE  Reactive Ion Etching 
  SOG  Spin on Glass 
  STN  Super Twisted Nematic 
  SVGA  Super Video Graphic Array 
  SXVA  Super Extended Graphic Array 
  TEOS  Tetraethylorthosilicate 
  TFT  Thin Film Transistor 
  UXGA  Ultra Extended Graphic Array 
  VA  Vertical Aligned 
  VGA  Video Graphic Array 
   XGA  Extended Graphic Array  


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