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光刻工艺及原理

(时间:2006-11-3 共有 人次浏览) [信息来源:互联网]


    本节介绍了在光刻工艺中起到重要作用的光刻胶。首先介绍了光刻胶中起敏感的光化反应和抗蚀作用的光致抗蚀剂,讨论了光致抗蚀剂的特性,指出:它是一种有机高分子化合物;它具有线型结构和体型结构的两种结构类型;光致抗蚀剂的性质为具有不同的溶解性、溶解性的转变性和耐酸碱性。本节重点介绍了在器件制造过程中的光刻工艺中起到重要作用的光刻胶,包括光刻胶的组成 (由感光树脂+溶剂  +增感剂+辅助剂构成);光刻工艺对光刻胶的要求(七项要求)。本节讨论了光刻胶的配制,包括在光刻胶中构成光刻胶的各组分的作用(感光树脂的作用、增感剂的作用、溶剂的作用、稳定剂〈辅助剂〉的作用);讨论了光刻胶的配制方法;讨论了光刻胶的配制原则(选择适当的抗蚀剂、溶剂和增感剂;选择适当的配方和注意增感剂的加入要适量)。对光刻胶的各种质量参数进行了讨论,包括光刻胶的感光度的说明、定义式、定义式的讨论、加入增感剂后的增感过程及原理;讨论了光刻胶的分辨率,包括分辨率的定义、分辨率的定义式、分辨率定义式的的讨论、分辨率求取的例子;讨论了光刻胶的粘附性,给出了光刻胶的粘附性说明、指出了与光刻胶的粘附性相关的各种因素;讨论了光刻胶的抗蚀性,给出了光刻胶的抗蚀性说明、指出了与光刻胶的抗蚀性相关的各种因素。介绍了与器件制造应用密切相关的负性光致抗蚀剂,包括负性光致抗蚀剂的特点(化学光敏性的特点);负性光致抗蚀剂的光化反应(可溶性胶光化反应后变为不溶性胶);负性胶的种类(聚肉桂酸酯类、  聚烃类和聚酯类三大类);介绍了负性光刻胶的工艺应用,包括各类负性光刻胶的的显影(不同类胶的不同显影液的应用 ),各类负性光刻胶的的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。介绍了与器件制造应用密切相关的正性光致抗蚀剂,包括正性光致抗蚀剂的特点(化学光敏性的特点);正性光致抗蚀剂的光化反应(不溶性胶光化反应后变为可溶性胶);正性胶的种类(邻叠氮醌类);介绍了正性光刻胶的工艺应用,包括各类正性光刻胶的的显影(弱碱性显影液的应用 ),各类正性光刻胶的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。 

    与光刻工艺相关的各种名词的定义,光刻工艺在器件制造中的重要性。有关光致抗蚀剂的说明;线型光致抗蚀剂的构成与说明,体型光致抗蚀剂的构成与说明;光致抗蚀剂的三个性质,及其是如何应用于器件制造中的。器件生产中所用的光刻胶,光刻胶是如何由感光树脂、溶剂、增感剂和辅助剂构成的,不同的感光树脂需配以不同的溶剂和增感剂 ,而这些不同的配合构成不同的光刻胶;关于光刻工艺对光刻胶的七项要求,对于光刻胶这些要求在器件生产中有什么实际意义。有关光刻胶的配制,对四类构成材料各有什么要求;四类构成材料各起到什么作用;光刻胶的配制方法和步骤;在 光刻胶的配制时应注意的问题。关于光刻胶的各种质量参数进行的讨论,有关感光度的说明、定义式、定义式的讨论、加入增感剂后的增感过程及增感原理;有关分辨率,包括分辨率的定义、分辨率的定义式、分辨率定义式的的讨论;有关光刻胶的粘附性,给出的光刻胶的粘附性说明、及其与光刻胶的粘附性相关的各种因素;有关光刻胶的抗蚀性,给出光刻胶的抗蚀性说明,及其与光刻胶的抗蚀性相关的各种因素。 与器件制造的应用密切相关的负性光致抗蚀剂内容,包括负性光致抗蚀剂的特点(化学光敏性的特点);负性光致抗蚀剂的光化反应(可溶性胶光化反应后变为不溶性胶);负性胶的种类(聚肉桂酸酯类、  聚烃类和聚酯类三大类);有关负性光刻胶的工艺应用,包括各类负性光刻胶的的显影(不同类胶的不同显影液的应用 ),各类负性光刻胶的的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。与器件制造的应用密切相关的正性光致抗蚀剂,包括正性光致抗蚀剂的特点(化学光敏性的特点);正性光致抗蚀剂的光化反应(不溶性胶光化反应后变为可溶性胶);正性胶的种类(邻叠氮醌类);有关正性光刻胶的工艺应用,包括各类正性光刻胶的的显影(弱碱性显影液的应用 ),各类正性光刻胶的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。
基本概念:
     1光刻-利用光致抗蚀剂的光敏性和抗蚀性,配合光掩模版对光透射的选择性,使用光学和化学的方法完成特定区域刻蚀的过程(光刻=图形复印+定域刻蚀)。
     2 光致抗蚀剂-对光敏感的具有抗蚀能力的高分子化合物。
     3 光掩模版-在光照时覆盖于光刻胶膜上,除特定区域外均对光有掩蔽作用的图版。俗称光掩模或光刻版。
     4图形复印-以光刻版为模特经曝光、显影在衬底表面胶膜上得到的与光刻版相应图形的过程。
     5定域刻蚀-以光刻胶膜为掩模,在一定的刻蚀条件下对无掩模区域薄膜进行刻蚀以得到与胶膜图形相同薄膜图形的过程。
     6 感光度-表征光刻胶对光敏感的指标,记为。其与胶膜发生溶变反应的最小曝光量成反比。
     7分辨率-每毫米宽度内最多可容纳的光刻出的可分辨线条数。
     基本要求:要求知道与光刻工艺相关的各种名词的定义,以及光刻工艺在器件制造中的重要性。清楚有关光致抗蚀剂的说明,其中包括线型光致抗蚀剂的构成与说明和体型光致抗蚀剂的构成与说明。了解光致抗蚀剂的三个性质,及三个性质是如何应用于器件制造中的。熟悉器件生产中所用的光刻胶,清楚光刻胶是如何由感光树脂、溶剂、增感剂和辅助剂构成的,知道不同的感光树脂需配以不同的溶剂和增感剂 ,而这些不同的配合构成不同的光刻胶,这些不同的光刻胶在器件制造中有不同的应用。了解关于光刻工艺对光刻胶的七项要求,知道光刻胶这些要求在器件生产中有什么实际意义。要求熟悉有关光刻胶的配制,知道四类构成光刻胶的材料各有什么要求和各起到什么作用,知道光刻胶的配制方法和步骤,清楚在光刻胶的配制时应注意的问题。熟悉所讨论的光刻胶的各种质量参数;知道有关感光度的说明、定义式、定义式的讨论和加入增感剂后的增感过程及增感原理;知道有关分辨率,包括分辨率的定义、分辨率的定义式、分辨率定义式的的讨论;知道有关光刻胶的粘附性,熟悉给出的光刻胶的粘附性说明、及其与光刻胶的粘附性相关的各种因素;知道有关光刻胶的抗蚀性,熟悉给出光刻胶的抗蚀性说明,清楚与光刻胶的抗蚀性相关的各种因素。要求知道与器件制造的应用密切相关的负性光致抗蚀剂所有的内容,包括负性光致抗蚀剂化学光敏性的特点;负性光致抗蚀剂的可溶性胶光化反应后变为不溶性胶的溶变现象;负性胶的种类(聚肉桂酸酯类、  聚烃类和聚酯类三大类);清楚负性光刻胶的工艺应用特点,包括各类负性光刻胶的的显影(不同类胶的不同显影液的应用 ),各类负性光刻胶的的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。要求知道与器件制造应用密切相关的正性光致抗蚀剂,包括正性光致抗蚀剂化学光敏性的特点的特点;正性光致抗蚀剂的不溶性胶光化反应后变为可溶性胶的溶变现象;正性胶的种类(邻叠氮醌类);清楚正性光刻胶的工艺应用,包括各类正性光刻胶的的显影(弱碱性显影液的应用 ),各类正性光刻胶的去胶(对于涂于不同衬底上的胶采用不同的去胶方法)。                                 
 

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